燃燒式廢氣處理設備
一次處理多種氣體
高效處理PFCs氣體
副產物對策・自動排出粉體功能
運行成本低
運作時間長
依氣體種類・份量按需求運行
提高維修性
可支援CE認證/SEMI-S2/NRTL
G5型是燃燒式廢氣處理設備,可高效處理製造製程中使用的各種氣體。可批量處理多種氣體,並能高效處理一般難以處理的PFCs氣體。獨創的副產物對策,和依處理氣體種類・份量(可調整燃料供給量)按需求運行,有效降低運行成本。適用於製造半導體・液晶面板・太陽能電池・LED等電子零件,亦適用於化學・材料製造和各種研究室等。另備有最大流量1,200L/min的大流量機型。
型號 | 單位 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
處理方式 | 燃燒式+濕式 | 燃燒式+濕式 | 燃燒式+濕式 | 燃燒式+濕式 | |
最大流入氣體容許量 | L/min | 350 | 500 | 600 | 1200 |
燃料 | 天然氣/液化石油氣 | 天然氣/液化石油氣 | 天然氣/液化石油氣 | 天然氣/液化石油氣 | |
尺寸 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
可處理的氣體 | 工程(倉庫)氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 所有清洗用氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等 |
工程(倉庫)氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 所有清洗用氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等 |
工程(倉庫)氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 所有清洗用氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等 |
工程(倉庫)氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 所有清洗用氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等 |
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標準配備品 | 粉體除去用燃燒器刮刀 | 粉體除去用燃燒器刮刀 | 粉體除去用燃燒器刮刀 | 粉體除去用燃燒器刮刀 | |
選配 | 減少市水、排水用量元件 | 減少市水、排水用量元件 | 減少市水、排水用量元件 | 減少市水、排水用量元件 |
TND型
燃燒式廢氣處理設備,以低NOx且豐富的反應副產物對策降低維修成本
G6型
最大1,200L/min 大流量燃燒式廢氣處理設備
FDS型
乾式廢氣處理設備,無需排水處理,高效且安全地處理PFCs氣體
乾式真空幫浦/廢氣處理設備一體化系統
可將腔體排氣・廢氣處理製程最佳化,降低統合・管理的成本