2021年12月01日
湿式排ガス処理装置G-WS型
荏原製作所（以下：荏原）は、2021年11月より、半導体製造プロセスにおける水溶性ガス処理を対象とした湿式排ガス処理装置G-WS型を新たに発売しました。
半導体製造工程における排ガス処理においては、更にTCO*1を削減し、環境負荷の低い処理装置が求められています。このような市場の要求に応えるため、当社は、水溶性ガスを使用するプロセスに最適化された湿式排ガス処理装置G-WS型を新たに発売しました。
①さまざまな生成物対策を盛り込んだ高い信頼性
生成物をガス流路に固着させない・滞留させない当社独自の生成物対策を結集。
燃焼式排ガス処理装置開発で10年以上にわたり培った生成物対策技術により、安定稼働とメンテナンス頻度・費用の削減に貢献。
②TCOの削減と環境負荷の低減を両立
湿式排ガス処理装置は低コストで導入可能。(当社燃焼式排ガス処理装置比）
燃料や酸素などを使用しないため、低ランニングコスト・低環境負荷でオペレーションを実現。
③省スペース
G-WS型のメンテナンススペースは前面のみ。限られたサブファブ*2 スペースでも柔軟なレイアウトと省スペースを実現。
製品仕様
| 型式 | G-WS1000 |
| 最大処理風量（L/min） | 1,000 |
| 最大接続流入本数 | 4 |
| 外形寸法（ｍｍ） | W915 x D737 x H1,727 |
| 処理対象ガス | DCS, HCl, NH3, ClF3, TiCl4などの水溶性ガス |
| 主な対応プロセス | LP-CVD(窒化膜）、エピタキシャル、メタルCVD、メタルエッチなど主に水溶性ガスを使用するプロセス |
下記の展示会にて、パネルおよび実機展示を行います。
| 真空展 | 12/1-3 | 東京ビッグサイト |
| Semicon Japan | 12/15-17 | 東京ビッグサイト |
当社は今後も、お客さまの期待に応える技術で課題に挑戦し、多様化する半導体業界のさらなる発展と、長期ビジョン「E-Vision2030」で掲げる「進化する豊かな生活づくり」の発展に貢献していきます。
本件に関するお問い合わせ先
取材のお申し込み：経営企画部 IR・広報課 ebr-pr@ebara.com
製品・展示会に関するお問合せ：マーケティング統括部 pmc_info@ebara.com
荏原グループは、長期ビジョンと中期経営計画に基づいてESG重要課題に取り組むことで、持続可能な開発目標(SDGs)の達成を目指し、企業価値のさらなる向上を図っていきます。
Total Cost of Ownershipの略
半導体の製造工場におけるクリーンルーム階下の設備フロア。排ガス処理装置初め製造装置の補機類が設置される。