燃焼式排ガス処理装置
低NOx, 低CO排出
複数ガス一括処理
PFCsガスを高効率処理
副生成物対策・粉体自動排出機能
Wet-Burn-Wetモデル選択可能
長期メンテナンスインターバル
低ランニングコスト
TND型は、独自の燃焼方式を採用し、低NOx, 低CO排出を実現した燃焼式排ガス処理装置です。様々な腐食・副生成物対策により従来製品比3倍以上のメンテナンスインターバルを実現、さらに消費ユーティリティが少ない低ランニングコスト方式により、コストを抑えて使用可能です。燃焼式+水スクラバーのTND-Single型と前段洗浄+燃焼式+水スクラバーのTND-Single Plus型をラインナップ。副生成物が多いプロセスでも低ランニングコスト・高効率処理を実現します。
型式 | 単位 | TND-Single A1-A4/ TND-Single P1~P4 | TND-Single Plus-A1~A4/P1~P4 |
処理方式 | 燃焼式+湿式 | 湿式+燃焼式+湿式 | |
最大流入ガス許容量 | L/min | 200(1ポートあたり) | 200(1ポートあたり) |
400(1装置あたり) | 400(1装置あたり) | ||
燃料 | 都市ガス/プロパンガス選択 | 都市ガス/プロパンガス選択 | |
寸法 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,980 | 1,200 x 650 x 1,980 |
処理可能ガス例 | プロセス(デポ)ガス SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2 、PH3、Si3H8など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など |
プロセス(デポ)ガス WF6、TiCl4、SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 など |
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標準装備品 | 粉体除去用水洗浄機構 | 前段粉体捕集機構 | |
粉体除去用バーナスクレーパ | 粉体除去用バーナスクレーパ | ||
オプション | 市水・排水使用量削減ユニット | 市水・排水使用量削減ユニット | |
粉体排出削減用ファンスクラバー | 粉体排出削減用ファンスクラバー |
G5型
可燃性ガス・地球温暖化ガス(PFCsガス)を高効率処理、燃焼式排ガス処理装置
G6型
最大1,200L/minの大流量燃焼式排ガス処理装置
FDS型
排水処理不要でPFCsガスの高効率安全処理、乾式排ガス処理装置
ドライ真空ポンプ・排ガス処理装置一体型システム
チャンバ排気・排ガス処理プロセスの最適化が可能、統合・管理コストを低減したドライ真空ポンプ・排ガス処理装置一体型システム