G5型
高效处理可燃性气体和氟化温室气体（PFCs气体）的燃烧式废气处理装置
燃烧式废气处理装置
批量处理多种气体
高效处理PFCs气体
副产物处理措施和粉尘自动排放功能
运行成本低
运行时间长
与气体种类和数量相适应的可调式运行
提高维护性能
可满足CE标示/SEMI-S2/NRTL要求
产品介绍
G5型是制造工艺所用可高效处理各种气体的燃烧式废气处理装置。可批量处理多种气体，能够高效进行通常处理起来较为困难的PFCs气体的处理。通过独家的副产物处理措施以及结合处理对象气体种类和数量实施的可调式（燃料供应量可调）运行，能够降低运行成本。该装置是半导体、液晶面板、太阳能电池和LED等电子元件制造以及化学材料工厂和各种研究室等用途的最佳选择。产品阵容还包括最大流量为1,200L/min的大流量机型。
规格
| 设备名称 | 单位 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
| 处理方式 | 燃烧式 + 湿式 | 燃烧式 + 湿式 | 燃烧式 + 湿式 | 燃烧式 + 湿式 | |
| 最大允许流入气体量 | L/min | 350 | 500 | 600 | 1200 |
| 燃料 | 选择城市燃气/丙烷气体 | 选择城市燃气/丙烷气体 | 选择城市燃气/丙烷气体 | 选择城市燃气/丙烷气体 | |
| 尺寸 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
| 可处理气体例 | 工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | 工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | 工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | 工艺（沉积）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有洁净气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蚀刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | |
| 标准装备品 | 粉体去除用燃烧器刮板 | 粉体去除用燃烧器刮板 | 粉体去除用燃烧器刮板 | 粉体去除用燃烧器刮板 | |
| 选项 | 自来水、污水使用量削减单元 | 自来水、污水使用量削减单元 | 自来水、污水使用量削减单元 | 自来水、污水使用量削减单元 | |
