GCR型

GCR型は、半導体酸化膜エッチング工程等で使用されるCF4などのPFCsガスを低ランニングコストで高効率分解除去可能な触媒式排ガス処理装置です。触媒処理後にHFガスの水処理を行うため、燃料が不要。省エネルギーで高効率処理を実現します。CO及び酸性ガス処理用反応槽またはPFC処理用反応槽（オプション）の2種類の処理方式から選択可能、長寿命かつメンテナンスが容易な反応槽を採用しており、メンテナンスコストを抑えてご使用頂けます。